Laboratoriumsmethoden
und -geräte, Quadrupolfilter, stark fokussierendes Linsensystem für
Teilchenstrahlung. Üblicherweise werden zur Fokussierung von elektrisch
geladenen Teilchen zylindersymmetrische magnetische Linsen verwendet. Im Falle
hochbeschleunigter Teilchen werden aber extrem hohe Spulenströme benötigt, die
nur in Einzelfällen durch den Einsatz supraleitender zylindersymmetrischer
Linsen reduziert werden (Elektronenlinsen). Die am häufigsten verwendeten stark
fokussierenden Linsen sind magnetische Quadrupole, deren Feld von vier
symmetrisch angeordneten, alternierend gepolten hyperbolischen Polschuhen
gebildet wird (siehe Abb.). Ein solcher Quadrupol fokussiert jeweils nur in
einer Ebene, während er in der anderen defokussierend wirkt. Deshalb besteht
eine magnetische Linse stets aus mindestens zwei Quadrupolen. Es gibt Linsen
mit zwei, drei oder gar vier Quadrupolen (Quadrupol-Dublett, -Triplett und
-Quadruplett). Die Bestimmung der Felder und Potentiale zwischen den Polschuhen
eines Quadrupolsystems ergibt sich aus der Lösung der Maxwell-Gleichungen. Da
aus Gründen der Symmetrie die magnetischen Felder in der Umgebung der
Strahlachse (paraxial) fast verschwinden, reduziert sich das Problem in
paraxialer Näherung auf die Lösung der Laplace-Gleichung. Die Oberflächen der
Polschuhe liegen auf dem Potential . Fordert man Hyperbeloberflächen und
beschränkt sich auf achsennahe Teilchenstrahlen (paraxiale Näherung), so ergibt
sich unter Berücksichtigung der Terme niedrigster Ordnung der bei der
allgemeinen modulierten Lösung der Laplace-Gleichung auftretenden modifizierten
Bessel-Funktion das Potential
mit den Parametern A (Beschleunigungsparameter) und c (Fokussierungsparameter). Beide hängen ausschliesslich von der Geometrie der Polschuhe ab und können nicht gleichzeitig optimiert werden; entweder der Teilchenstrahl wird in axialer Richtung beschleunigt oder fokussiert.
Quadrupollinse: Geometrische Anordnung der Elektroden bzw. Polschuhe in einer Quadrupollinse mit vier Symmetrieebenen, die sich unter einem Winkel von 45° längs der senkrecht zur Zeichenebene liegenden optischen Achse (OA) schneiden. Unter der Annahme einer unendlichen Ausdehnung der zylindrischen Elektroden in Richtung der OA und von Potentialen +F bei A und A\' und -F bei B und B\' divergieren die Elektronenbahnen bezüglich der x1-Richtung und konvergieren bezüglich y1.
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