Erste - Schablone im Schablonenherstellungsprozeß, die alle Strukturen in der für die Übertragung auf den Wafer erforderlichen Größe enthält. Da die O. direkt aus der Zwischenschablone (Schablone) entsteht, hat sie eine hohe Qualität. Sie wird als Informationsträger für das Projektierungsbelichten (Projektionsbelichtung)verwendet. Beim Einsatz von Kontakt- oder Abstandsbelichtung (Fotolithografie) ist der Schablonenverschleiß sehr hoch. Daher werden von der O. Kopien, die Arbeitsschablonen, angefertigt. O. können sowohl t Fotoemulsions- als auch Metallschablonen sein. Hochgenaue O. werden mittels direktschreibender Elektronenstrahl-belichtung hergestellt.
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