Engl. Schritt und Wiederholung. Verfahren zum Belichten von mit einem Resist beschichteten Wafern durch Aneinanderrei hen von Einzelbildern. Da beim Projektionsbelichten (Fotolithografie) das Belichten des ganzen Wafers aus optischen Gründen in einem Schritt nicht möglich ist, werden im S. einzelne Belichtungsfelder aneinandergereiht. Die Schablone kann dabei nach jeder Verschiebung des Wafers erneut justiert werden. Dieses Prinzip wird auch bei der Schablonenherstellung (Herstellung der Originalschablone) und der Elektronenstrahl-Lithografie genutzt.
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