Techniklexikon

JUB

Justier- und Belichtungseinrichtung. Gerät zum Justieren und Belichten von mit Fotolack beschichteten Wafern mit Hilfe einer Schablone. Eine J. vereinigt die Baugruppe zum Justieren und Belichten in einem Gerät. Sie besteht neben der Lichtquelle (eine Quecksilberhochdrucklampe) und der Belichtungsoptik aus Baugruppen zum Transport und zur Hal-terung von Schablone und Wafer und dem Justiersystem. Für das Justieren wird sichtbares Licht verwendet, das den Fotolack nicht belichtet. Man unterscheidet zwischen Geräten zur Projektionsbelichtung und zum Kontakt- bzw. Abstandsbelichten. Die höchste Schablonenstandzeit erreicht man beim Projektionsbelichten. Da eine niedrige Defekdichte auf der Schablone eine Voraussetzung für die Erhöhung des Integrationsgrads und der Ausbeute ist, setzt sich dieses Verfahren trotz des Aufwands immer mehr durch.