Oberflächen- und Grenzflächenphysik, an der Oberfläche eines Materials sich befindende Schicht, die sich in ihren Eigenschaften (z.B. elementare Zusammensetzung) von der des Materials unterscheidet. Beispiel: Ultradünne SiO2-Schicht auf Wafer-Silicium; die durch Oxidation entstehende natürliche SiO2-Schicht entsteht durch Auslagerung des Wafer-Siliciums an Luft und hat eine typische Schichtdicke von mehreren Nanometern (typisch 10 nm). Vor der Weiterverarbeitung des Wafer-Siliciums ist eine eventuelle Oberflächenschicht chemisch zu entfernen. (Oberflächenanalyse)
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