Verfahren zur lokalen Erwärmung von Festkörpern in kurzer Zeit (ms), wobei die Probenerwärmung mittels Rasterung eines feinfokussierten Elektronenstrahls (z.B. E = 20 keV, I = 3 mA) mit hoher Frequenz erfolgt. Die Vorteile gegenüber der konventionellen Ofentemperung liegen in der präzisen Steuerung der Aufheiz- und Abkühlrampen, der Temperzeit und der Temperung unter Hochvakuum. Die erreichbaren Temperaturen liegen oberhalb von 1500 °C. Gitterschäden nahe der Oberfläche werden vermieden, da der Energieübertrag von Elektron zu Substratatom geringer als 1,6 eV ist, notwendig wären hingegen 10-20 eV. Die Temperaturmessung erfolgt über Messung der Wärmeabstrahlung.
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