Ionenstrahllithographie
Autor:
Martina Wagner
Martina Wagner
Ion Beam Lithography, ein Verfahren zum Einbringen von Strukturen in die Oberfläche eines Festkörpers, das Ionenstrahlen anstelle von Lichtstrahlen benutzt und in der Mikrochip-Produktion eingesetzt wird. Da Ionenstrahlen eine kürzere Wellenlänge haben als Lichtstrahlen, können mit ihnen Strukturen übertragen werden, die mit Licht nicht mehr aufzulösen sind.
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